Resistência de união de uma cerâmica IPS® usando diferentes cimentos resinosos e aparelhos fotopolimerizadores
Estética | JCDR 2022 v19n3
Objetivo: O objetivo do presente estudo foi avaliar a influência de dois cimentos resinosos e dois aparelhos fotopolimerizadores (um monowave e um polywave) na resistência de união ao microcisalhamento (RUμC) da cerâmica IPS e.max Press. Métodos: A superfície de 40 discos cerâmicos foi...
Autores: Américo Bortolazzo Correr, Lourenço Correr Sobrinho, Fernanda Midori Tsuzuki, Ana Rosa Costa, Camila Imperador Rodrigues Alves, Lincoln Pires Silva Borges,
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